AMAX200/AMAX800/AMAX1200:連続式常圧CVD装置 SiH4/O2【大量生産向】
  • 主な用途 半導体デバイス・シリコンウェーハ裏面コート
  • AMAX200 >>>> ～ φ150mm ウェーハ対応。　スループット 57枚/hr
  • AMAX800 >>>> ～ φ200mm ウェーハ対応。　スループット 55枚/hr
  • AMAX1200 >>>> ～ φ300mm ウェーハ対応。
A6300 :連続式常圧CVD装置　SiH4/O2 【大量生産向】
  • 主な用途 半導体デバイス・シリコンウェーハ裏面コート・太陽電池等
  • φ100～φ150mmウェーハ対応
  • ダブルレーン方式で高スループットを実現　120枚/hr
AEC2200 / AEC2250 / AEC2260 :連続式常圧CVD装置 SiH4/O2
  • 主な用途 半導体デバイス