AMAX200/AMAX800/AMAX1200:連続式常圧CVD装置 SiH4/O2【大量生産向】
- 主な用途 半導体デバイス・シリコンウェーハ裏面コート
- AMAX200 >>>> ~ φ150mm ウェーハ対応。 スループット 57枚/hr
- AMAX800 >>>> ~ φ200mm ウェーハ対応。 スループット 55枚/hr
- AMAX1200 >>>> ~ φ300mm ウェーハ対応。
A6300 :連続式常圧CVD装置 SiH4/O2 【大量生産向】
- 主な用途 半導体デバイス・シリコンウェーハ裏面コート・太陽電池等
- φ100~φ150mmウェーハ対応
- ダブルレーン方式で高スループットを実現 120枚/hr
AEC2200 / AEC2250 / AEC2260 :連続式常圧CVD装置 SiH4/O2
- 主な用途 半導体デバイス